ਉਤਪਾਦ

ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਸਪਨ ਅਲਟਰਾ-ਥਿਨ ਲੇਅਰ ਕ੍ਰੋਮੈਟੋਗ੍ਰਾਫੀ (ਈ-ਯੂਟੀਐਲਸੀ) ਲਈ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਸ ਸਿਲਿਕਾ-ਅਧਾਰਿਤ ਸਟੇਸ਼ਨਰੀ ਪੜਾਵਾਂ ਦਾ ਵਰਣਨ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਹੈ।ਕੰਪੋਜ਼ਿਟ ਸਿਲਿਕਾ/ਪੋਲੀਮਰ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਸ ਬਣਾਉਣ ਲਈ ਪੋਲੀਵਿਨਿਲਪਾਈਰੋਲੀਡੋਨ ਘੋਲ ਵਿੱਚ ਖਿੰਡੇ ਹੋਏ ਸਿਲਿਕਾ ਨੈਨੋਪਾਰਟਿਕਲ ਦੇ ਇੱਕ ਘੋਲ ਨੂੰ ਇਲੈਕਟ੍ਰੋਸਪਿਨ ਕਰਕੇ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਜ਼ ਤਿਆਰ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ।ਸਟੇਸ਼ਨਰੀ ਫੇਜ਼ਾਂ ਨੂੰ ਐਸ-ਸਪਨ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਸ ਤੋਂ ਬਣਾਇਆ ਗਿਆ ਸੀ, ਜਾਂ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਾਂ ਨੂੰ ਜਾਂ ਤਾਂ ਪੋਲੀਵਿਨਿਲਪਾਈਰੋਲੀਡੋਨ ਨੂੰ ਕ੍ਰਾਸਲਿੰਕ ਕਰਨ ਲਈ ਜਾਂ ਕੈਲਸੀਨ ਕਰਨ ਲਈ ਅਤੇ ਚੋਣਵੇਂ ਤੌਰ 'ਤੇ ਪੋਲੀਮਰ ਨੂੰ ਹਟਾਉਣ ਲਈ ਗਰਮ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ।ਸਮਾਨ ਮੈਟ ਮੋਟਾਈ (23-25 ​​μm) ਦੇ ਨਾਲ ਸਪਨ, ਕਰਾਸਲਿੰਕਡ, ਅਤੇ ਕੈਲਸੀਨਡ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਾਂ ਦਾ ਮੁਲਾਂਕਣ ਲੇਜ਼ਰ ਰੰਗਾਂ ਅਤੇ ਅਮੀਨੋ ਐਸਿਡਾਂ ਦੇ E-UTLC ਵਿਭਾਜਨ ਲਈ ਸਟੇਸ਼ਨਰੀ ਪੜਾਵਾਂ ਵਜੋਂ ਕੀਤਾ ਗਿਆ ਸੀ ਅਤੇ ਵਪਾਰਕ ਸਿਲਿਕਾ TLC ਪਲੇਟਾਂ ਦੀ ਤੁਲਨਾ ਵਿੱਚ।ਜਿਵੇਂ-ਸਪੱਨ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰ ਪਲੇਟਾਂ ਨੇ ਤੇਜ਼ ਮੋਬਾਈਲ ਪੜਾਅ ਵੇਗ ਦੀ ਪੇਸ਼ਕਸ਼ ਕੀਤੀ, ਪਰ ਦੂਜੇ ਪੌਲੀਮਰ-ਅਧਾਰਿਤ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਾਂ ਵਾਂਗ, ਵਿਭਾਜਨ ਸਿਰਫ ਪੋਲੀਮਰ ਦੇ ਗੈਰ-ਸੋਲਵੈਂਟਸ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਨ ਵਾਲੀਆਂ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦੇ ਅਨੁਕੂਲ ਸਨ।ਕ੍ਰਾਸਲਿੰਕਡ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰ ਰਸਾਇਣਕ ਸਥਿਰਤਾ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਸੀਮਤ ਨਹੀਂ ਸਨ, ਪਰ ਵਿਛੋੜੇ ਨੇ ਪੂਛ ਵਾਲੇ ਸਥਾਨ ਦੇ ਆਕਾਰ ਪੈਦਾ ਕੀਤੇ।ਕੈਲਸੀਨਡ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਸ ਲਈ ਮੋਬਾਈਲ ਪੜਾਵਾਂ, ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਕ ਸੌਲਵੈਂਟਸ, ਅਤੇ ਵਿਜ਼ੂਅਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦੇ ਸੰਦਰਭ ਵਿੱਚ ਕੋਈ ਸੀਮਾ ਨਹੀਂ ਦੇਖੀ ਗਈ।ਕੈਲਸੀਨਡ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰ ਪਲੇਟਾਂ 'ਤੇ 15 ਮਿਲੀਮੀਟਰ ਵਿੱਚ ਐਮੀਨੋ ਐਸਿਡ ਦੇ ਉੱਚ ਕੁਸ਼ਲ ਵਿਭਾਜਨ ਕੀਤੇ ਗਏ ਸਨ, ਜਿਸ ਵਿੱਚ ਪਲੇਟ ਦੀ ਉਚਾਈ 8.6 μm ਤੋਂ ਘੱਟ ਸੀ, ਅਤੇ ਪਲੇਟ ਨੰਬਰ 1400 ਤੱਕ ਵੱਡੇ ਸਨ। ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਾਂ ਦੇ ਵਾਧੂ ਅਲਾਈਨਮੈਂਟ ਨੇ ਛੋਟੇ ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਣ ਸਮੇਂ ਪ੍ਰਦਾਨ ਕੀਤੇ ਪਰ ਵੱਡੀ ਥਾਂ ਦੀ ਚੌੜਾਈ ਵੀ।ਸਿਲਿਕਾ-ਅਧਾਰਤ ਨੈਨੋਫਾਈਬਰਾਂ ਤੱਕ ਸਥਿਰ ਪੜਾਵਾਂ ਦਾ ਵਿਸਤਾਰ ਮੋਬਾਈਲ ਪੜਾਵਾਂ, ਵਿਸ਼ਲੇਸ਼ਕ ਸੌਲਵੈਂਟਸ, ਅਤੇ ਵਿਜ਼ੂਅਲਾਈਜ਼ੇਸ਼ਨ ਤਕਨੀਕਾਂ ਦੀ ਰੇਂਜ ਦਾ ਵਿਸ਼ਾਲ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਵਿਸਤਾਰ ਕਰਦਾ ਹੈ ਜੋ ਕਿ E-UTLC ਵਿਭਾਜਨ ਲਈ ਵਰਤੀ ਜਾ ਸਕਦੀ ਹੈ।